KRi 中和器 Neutralizer Sources
上海伯东美国 KRi 提供几种类型的低能量高电流电子源. 电子源技术包含浸入式热离子灯丝和非浸入式空心阴极*. 型号包含灯丝, LFN2000, LHC1000, MHC1000, SHC1000.
通常, 这些电子源可以作为阴极和/或中和器与等离子体或离子源结合使用. 它们在惰性和反应性气体环境中的操作是标准的. 电子源的发射电流是用电流反馈回路测量和控制. 由于这种精确可靠的电子源, KRi 电子源成功地用于静电敏感应用和介电材料环境.
KRi 电子源安装在材料处理环境中, 作为中和器集成到离子束源上, 或者可以集成到等离子体放电的电离过程中. 在其他更专业的应用中, 可以与磁控管阴极一起安装以调整溅射操作.
KRi 中和器 Neutralizer Sources 功能
离子束中和: 射频离子源, 考夫曼离子源, 霍尔离子源和阳极层源
等离子体产生中的电离: 射频离子源, 考夫曼离子源, 霍尔离子源
在正偏置分析仪器中, 电中和
磁控溅射中增强的电子通量
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理
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