VK-X3000创新点：①扫描方式升级：上一代VK-X1000系列有两种扫描方式（聚焦变化、激光共聚焦），新一代VK-X3000系列升级为三种扫描方式（聚焦变化、激光共聚焦、白光干涉），可以根据样品工件的材料、形状和测量范围选择适合的扫描方式，进行高精度测量。扫描方式升级，好高分辨率由以前的0.5nm提升至0.01nm，微小形状也能准确获取，支持难以扫描的透明体和镜面体。②配件升级：VK-X1000系列配备的是0.5nm线性标尺，VK-X3000系列升级为0.1nm线性标尺。配备高精度线性标尺，以0.1nm的高分辨率识别物镜的Z位置，从而实现更加细微的凹凸检测。③增加CAD比较测量功能。
采用了三重扫描方式，运用激光共聚焦、白光干涉、聚焦变化等三种不同的扫描原理，高倍率和低倍率，平面、凹凸表面的细微粗糙度，
以及镜面体，透明体等。VK拥有应对多种样品的测量能力（从 1 nm 到 50 mm），纳米/微米/毫米一台完成测量。
观察
从光学显微镜到SEM领域一台设备涵盖
42 至 28800 倍
无需对焦
适用于多种样品
测量
非接触瞬间扫描形状
不会损伤目标物
纳米级别也可准确测量
透明体和坡度大的目标物也可测量
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