技术参数
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产品归类 |
型号 |
平均粒径（nm） |
纯度 （%） |
比表面积 （m2/g） |
体积密度 （g/cm3） |
晶型 |
颜色 |
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纳米级 |
CW-SiO2-001 |
20 |
99.9 |
80 |
0.23 |
近球形 |
白色 |
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加工定制 |
根据客户需求适当调整产品纯度及粒度 |
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主要特点
1产品纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，高表面活性，松装密度低，气相法制备，克服了市场上湿化学法制备的颗粒硬团聚、难分散、纯度低等缺点；
2耐高温，表面面积大，粒径小；良好的分散性、悬浮性，振动液化性；具有很好的触变性；具有很好的补强和增稠作用；经过表面处理，具有更好的亲水和亲油性。
3表面存在大量的不饱和残键及不同键合状态的羟基，因表面欠氧而偏离了稳定的硅氧结构，所以具有高反应活性，粉体松装密度比较小，容易分散使用；
4我公司纳米氧化硅用气相法合成得，颗粒度小，均匀，可控，针对客户使用体系的不同，公司可以进行针对性的表面处理包裹，使得纳米氧化硅粉体可以稳定地分散在溶剂体系中，形成透明状或半透明状溶胶，应用在涂料、玻璃表面、电子封装等；
5对紫外光和可见光都呈现较高的反射特性，对紫外短波（200~280nm）的反射率达70%~80%；对紫外中长波（280~400nm）的反射率达80%~85%；对可见光（400~800nm）的反射率达85%以上；对800~1350波段的近红外线的反射率也达70%以上。
应用领域
1橡胶改性、密封胶陶瓷增韧、黏结剂改性、功能纤维添加剂、塑料改性、抗油漆老化添加剂；
2陶瓷、纳米陶瓷、复合陶瓷基片；
3聚合物：可增加聚合物的热稳定性和抗老化性；
4阻燃材料，涂料、研磨介质、化妆品等产品；
5在溶聚丁苯和氯化聚乙烯中添加少量纳米SiO2生产出的彩色橡胶制品的韧性、强度、伸长率、抗折性能及抗紫外线老化和热老化等性能均达到或超过三元乙丙橡胶；
6在传统涂料中添加少量纳米氧化硅后，很好的解决了其悬浮稳定性差、触变性差、抗老化性差、光洁度不高等问题。
技术支持
公司可以提供纳米氧化硅粉在橡胶、陶瓷、聚合物等中的应用技术支持，具体应用咨询请与销售部人员联系。
包装储存
本品为惰气包装，应密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜长久暴露于空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果。
纳米二氧化硅粉-纳米氧化物粉体 http://www.cwnano.com.cn/product-item-20.html
松下32纳米制程LSI本月正式量产
今年10月起，松下开始以32纳米制程批量生产大规模集成电路（LSI），LSI(Large-scale integration)将应用于松下支持3D放映的蓝光播放器中。32纳米制程的LSI在今年春季首次被美国英特尔应用于笔记本电脑中而实现量产，此次松下把32纳米制程的LSI应用于旗下家电制造中在业界还是首次。
32纳米制程的LSI将在松下位于日本富山县鱼津市的工厂内开始量产，由于该工厂目前已经在批量生产目前世界醉先进的45纳米制程的LSI，多数生产设备可以继续利用以生产32纳米制程的LSI，因而松下仅需付出少量资金用于更新生产设备。目前，松下并没有公布量产规模及投资金额，不过松下将会把更新生产设备的投资金额控制在250亿日元之内。
和现有的45nm工艺相比，32nm工艺在以下几个方面有着显著的变化：32nm工艺使用第二代高-K金属栅级、0.9nm等价氧化物厚度高-K（45nm技术是1nm）、金属栅级工艺流程更新、30nm栅极长度、第四代应变硅、有史以来醉紧密的栅极间距（第一代32nm技术将使112.5nm栅极间距）、有史以来醉高的驱动电流、晶体管性能提升22%、同比封装尺寸将是45nm工艺产品的70%。
相对于45nm工艺，NMOS晶体管的漏电量减少5倍多，PMOS晶体管的漏电量则减少10倍以上。由于上述改进，电路的尺寸和性能均可得到显著优化。
