PVD是英文PhysicalVaporDeposition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD纳米涂层通常称谓：镀钛，真空镀钛，镀铬，镀钛加工，PVD镀钛，纳米镀钛，纳米涂层，真空镀钛加工，真空涂层，表面处理等。
真空镀钛涂层特点：增寿、增硬、增值，并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等优越的使用性能广泛应用于模具工业中。
多元复合涂层种类：氮化钛（TiN）氮化铬（CrN）氮化钨（Wu-N）碳化钨（Wu-C）氮化锆（ZrN）碳氮化钛（TIcN）碳氮化铬（CrCN）氮化钛铝（TiAlN）氮化铝钛（AlTiN）氮化钛铬（TiCrN）氮化钛硅（TiSiN）氮化锆硅（ZrSiN）氮化铬铝（CrAlN）氮化铬硅（CrSiN）氮化钛铝铬（TiAlCrN）氮化钛铝硅（TiAlSiN）氮化钛铝铬硅（TiAlCrSiN）类金刚石（DLC）炭化铬钨（CrN-Wc)等各种超硬膜层，其涂层厚度可达到0.5～5um，故而您不用担心会给尺寸带来麻烦，并以新工艺使产品具有良好的润滑、散热（干式），使工件寿命可增加10～50倍，可提高600％工作效力，从而降低制造加工成本。
