合肥半导体芯片清洗用水设备/合肥超纯水设备

合肥半导体芯片清洗用水设备/合肥超纯水设备

芯片清洗用水概述芯片清洗用水、半导体封装用水设备、引线框架、集成电路、lcd液晶显示器用纯水、导电玻璃超纯水设备、显像管、线路板、光驼信、电脑元件、电容元器件等工业用纯水。 太阳能硅片纯水处理，pcb超纯水，半导体led超纯水处理设备，电视机纯水处理、录音机水处理，为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、ro反渗透主机系统、均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用plc可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

芯片清洗用水的优点

在设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI水处理工艺，确保处理后的超纯水水质符合要求，水利用率高，运行可靠，经济合理。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，采用plc+触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

我公司会根据客户的具体需要设计出合理的清洗设备，再加上我们强大的技术服务团队，会更好的为客户解决技术上的问题，想客户之水想，及客户之所急，我们会站在客户的角度，将成本降到好低。我们的专业，是您有利的保障。

芯片清洗用水的工艺

1、预处理+阳床+阴床+混床。

2、预处理+(单/双级)反渗透。

3、预处理+(单/双级)反渗透+混床。

4、预处理+(单/双级)反渗透+EDI电除盐。

芯片清洗用水的技术特点

1、超纯水专用膜

    采用膜表面高分子嫁接技术，产水TOC在20PPB以下，更适用电子级超纯水系统。

    高TOC脱除率、高抗污染能力、低TOC溶出率，TOC达标冲洗时间短、先进配套电源技术，能耗更低。

2、去电子（CDI）技术

    离子交换树脂再生不需要使用昂贵且有危害的化学品，降低了能源和运行费用、设施的大小要求。

    采用新型均匀述职树脂包填充，有效提高脱盐率。

芯片清洗用水的标准

1、ASTM-D5127-2007《美国电子学和半导体工业用超纯水标准》

2、欧盟电子级超纯水标准

 

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