用途:在集成电路、半导体和电真空器件制造中用作保护气和运载气,化学气相淀积时的载气,液体扩散源的携带气,在高温扩散炉中用作器件的保护气。高纯氮在外延、光刻、清洗和蒸发等工序中,作为置换、干燥、贮存和输送用气体。显像管制造中要求氮气纯度为99.99%以上。在航天技术中,液氢加注系统必须先用高纯氮置换,再用高纯氦置换。
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详细信息IP属地 山东省济宁市 电信 用途:在集成电路、半导体和电真空器件制造中用作保护气和运载气,化学气相淀积时的载气,液体扩散源的携带气,在高温扩散炉中用作器件的保护气。高纯氮在外延、光刻、清洗和蒸发等工序中,作为置换、干燥、贮存和输送用气体。显像管制造中要求氮气纯度为99.99%以上。在航天技术中,液氢加注系统必须先用高纯氮置换,再用高纯氦置换。 |